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高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD400
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高真空磁控濺射薄膜沉積系統--PVD400

本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
零售價
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市場價
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瀏覽量:
1000
產品編號
真空室結構:
方形前開門
真空室尺寸:
φ400x400x400mm
極限真空度:
≤6.6E-5Pa
沉積源:
永磁靶3套,φ2英寸
樣品尺寸,溫度:
φ4英寸,1片,最高800℃
占地面積(長x寬x高):
約1.8米×1.7米×2米
電控描述:
全自動
工藝:
片內膜厚均勻性:≤±3%
特色參數 :
數量
-
+
庫存:
1
產品描述
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產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。

設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
 

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