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線列式磁控濺射系統
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線列式磁控濺射系統

本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
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產品編號
真空室結構:
長方形側開門
真空室尺寸:
1100X700X350mm
極限真空度:
≤6.0E-5Pa
沉積源:
磁控靶尺寸:450X80mm、向上濺射,每個真空室配2個靶位
樣品尺寸,溫度:
300X400mm;最高溫度300度
占地面積(長x寬x高):
約6米×3米×2米(設計待定)
電控描述:
全自動
工藝:
設計待定
特色參數 :
數量
-
+
庫存:
1
產品描述
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產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。

設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
 

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