產品對比
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高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統--FJL560
零售價
0.0
元
市場價
0.0
元
瀏覽量:
1000
產品編號
所屬分類
磁控濺射鍍膜系統
真空室結構:
圓筒形上升蓋
真空室尺寸:
φ550x450mm
極限真空度:
≤6.0E-5Pa
沉積源:
磁控靶3套，φ2英寸；四工位轉靶1套；
樣品尺寸，溫度:
φ2英寸，6片。最高800℃
占地面積（長x寬x高）:
約3米×1.1米×2米
電控描述:
全自動
工藝:
片內膜厚均勻性：≤±3%
特色參數 :
濺射源：考夫曼離子源 Kaufman 2套，φ2英寸
數量
-
+
庫存:
1
產品描述
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產品概述：
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等，工藝性能穩定、模塊化結構，采用行業領先的軟件控制系統。
設備用途：
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備?？蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
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