產品對比
(
0
)

這里是產品名稱這里是產品名稱這里是產品名稱這里是產品名稱
高真空磁控濺射與離子束復合薄膜沉積系統--FJL560
零售價
0.0
元
市場價
0.0
元
瀏覽量:
1000
產品編號
所屬分類
磁控濺射鍍膜系統
真空室結構:
圓筒形上升蓋
真空室尺寸:
φ550x450mm
極限真空度:
≤6.0E-5Pa
沉積源:
磁控靶3套,φ2英寸;四工位轉靶1套;
樣品尺寸,溫度:
φ2英寸,6片。最高800℃
占地面積(長x寬x高):
約3米×1.1米×2米
電控描述:
全自動
工藝:
片內膜厚均勻性:≤±3%
特色參數 :
濺射源:考夫曼離子源 Kaufman 2套,φ2英寸
數量
-
+
庫存:
1
產品描述
[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[[產品參數, 參數]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]]
產品概述:
本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業領先的軟件控制系統。
設備用途:
用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備??蓮V泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。
下一個
無
請您留下寶貴意見和建議
- 下載中心
- 聯系我們 024-23826855
- 返回頂部
Copyright 2020 中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 網站建設:中企動力 沈陽 遼ICP備15011951號